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半導體超純水介紹 超純水設備

發布時間: 2025/1/17 有效時間: 2025/7/18

詳細介紹

半導體超純水介紹

隨著半導體工業的不斷發展,對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴格。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高,因此半導體行業的超純水與其他行業的用水要求不同。半導體行業對超純水有嚴格的水質要求。目前,半導體所用的超純水需要達到的水質標準為:我國電子工業部電子級水質技術標準(18MQ.cm、15MO.cm、10MO.cm、2M.O.cm、0.5M.O.cm五級標準),我國電子工業部高純水水質試行標準,國內外大規模集成電路水質標準等。

那么,如何產出高質量的半導體超純水?

建議采用“兩級RO+EDl+精混床除鹽水處理工藝"這類的超純水設備,可保證處理后的水電阻和電電阻達到18MO.cm以上。除了采用以上工藝外,結構設計也需要相對緊湊,這樣一來占地面積小可為企業節省大量建設空間。這種半導體超純水設備出廠前都是需進行壓力測驗的,所以出現故障概率小。還可以配備反滲透預脫鹽技術,再次從根本上確保了水處理設備的出水質量。


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電子級水UV-TOC控制系統

半導體超純水介紹產品規格:

處理水量

2~60m3/h

燈管配置

12~48支

燈管類型

85w/155w(185/254nm雙波段)

石英套管

T>80%@185nm

鎮流器

50~100%輸出功率可調

反應器材質

316L

潔凈等級

內外電解拋光、表面光潔度10以上(≤Ra0.2)

法蘭尺寸

DN50~DN200

額定壓力

PN10

控制柜等級

IP55,碳鋼噴塑

控制系統

本地/遠程、觸摸屏、連接SCADA系統

UV強度傳感器

分辨率0.01mw/cm2









集成電路超純水應用領域:

1. 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路板

2. 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

3. 電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

4. 黑白顯像管熒光屏的生產、波殼清洗、沉淀、洗膜、管頸清洗

5. 液晶顯示器的生產、屏面清洗

6. 集成電路生產中高純水清洗硅片

7. LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏的生產










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